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氧化硅抛光液是什么？

来源：　发布时间：2025-04-07 15:04:58
由纳米二氧化硅颗粒、溶剂、化学助剂等成分组成；
用于材料表面平坦化处理，是 CMP 工艺的核心材料之一；
通过化学腐蚀作用和机械磨削作用配合去除材料表面缺陷、降低表面粗糙度；
其性能直接影响被加工材料表面质量和加工效率。
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