蓝宝石抛光用硅溶胶核心作用机制
来源： 发布时间：2025-07-04 14:07:40
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物理磨削与化学协同
- 硅溶胶中的纳米级二氧化硅颗粒（粒径通常在50-110nm）通过机械摩擦去除蓝宝石表面微小瑕疵，同时其化学稳定性避免对基材造成腐蚀，确保抛光后表面光泽度和透明度。
- 改性技术：通过钙离子掺杂或硅烷偶联剂改性，可制备非球形硅溶胶颗粒。这种结构破坏原有球形生长趋势，增加摩擦系数，显著提升材料去除速率（如钙离子掺杂后去除速率提高20%以上），同时改善表面粗糙度（Ra值可低至1.1nm）。
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工艺参数优化
- 转速与压强：抛光机转速建议设为60r/min，压强0.18MPa，以平衡磨削效率与表面质量。
- 流速与稀释比：抛光液流速设为全速，与纯水稀释比1:1，确保颗粒分散均匀性。
- pH调节：通过添加pH调节剂将抛光液pH值控制在9.0-10.5，可优化化学腐蚀与机械磨削的协同效应。
