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蓝宝石抛光用硅溶胶技术优势与性能指标
来源: 发布时间:2025-07-04 16:07:21
高去除率与表面质量
硅溶胶抛光液可实现蓝宝石表面材料的高效去除(去除速率达34.1-41.6nm/min),同时表面粗糙度低(Ra=1.1-2.3nm),满足半导体晶片、光学元件等高精度加工需求。
粒径选择
:80nm硅溶胶在表面粗糙度控制上表现(Ra=1.1nm),而110nm硅溶胶去除速率更高(41.6nm/min),需根据工艺需求权衡选择。
稳定性与环保性
优质硅溶胶产品(如SD-10050型)具有乳白色外观、密度1.375-1.396g/cm³、固含量49-51%、氧化钠含量≤0.5%,可长期稳定储存,避免沉淀或分层问题。
低金属离子含量(如Na⁺≤0.5%)有效防止抛光过程中对蓝宝石的污染,符合半导体行业环保要求。
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蓝宝石抛光用硅溶胶核心作用机制
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